金属氧化物半导体传感器(MOS):MOS传感器的交叉干扰来自两个方面:PN结和催化剂。硅片上的结和催化剂很早就被发现了。PN结的电阻对温度、湿度和环境空气都很敏感。后来,为了扩大敏感性,人们正在扩大敏感性。PN涂上对可燃气体敏感的催化剂,加热,构成MOS传感器。MOS没有气体选择性,从市场上的传感器技术数据来看,所有可燃气体,MOS都有响应。
如何消除交叉干扰?
催化燃烧传感器(LEL):很难消除。一般来说,LEL传感器对可燃气体有反应,这种反应是叠加的。只有一个可以实现,那就是去除大分子。HC气体的副作用是延长传感器的响应时间。
电化学传感器(EC):首先要知道被测气体的类型,然后在传感器的交叉灵敏度表中找到交叉干扰系数。如果找不到,需要咨询传感器供应商的技术支持工程师。消除交叉干扰的最好方法是过滤其他气体,例如,CO传感器内部添加可以过滤掉H2S,NO和NO2过滤器。当然,这种过滤器也是化学物质,消耗性和寿命长。此外,化学过滤器不能过滤掉所有干扰气体。如果几种被测气体混合在一起,则测量浓度,EC传感器对它们的交叉灵敏度不为零,需要通过多个方程组来解决。该方法是烟气分析仪器中的标准算法。
非色散红外传感器(NDIR):由于不同气体的红外吸收波长不同,几乎不需要消除交叉干扰。唯一特别的是,水蒸气对水蒸气的吸收波长不同。HC气体检测的干扰。根据个人经验,40岁,℃,90%RH的条件下,NDIRCH传感器读数比真值高1500PPM以上。在这种情况下,如果需要改进测量精读,则需要采用制冷除水法或制冷除水法Nafion除水法去除了大量的水蒸气。红外线。CH4传感器对HC各种气体都有交叉反应,因为CH4传感器实际上是测量的H-C钥匙的浓度,所以只要有钥匙的浓度,H-C键气,红外CH4传感器实际上可以测量。
光离子传感器(PID):基本上不能消除。PID用于测量挥发性有机物(VOC)的,而通常VOC分子比较大,比如碳链的长度≥4、用分子筛或活性炭过滤,VOC被吸附,无法到达传感器,也无法检测到VOC浓度。但是,用活性炭过滤气体,对气体,PID另一个好处是可以用活性炭过滤的空气标定零点。
金属氧化物半导体传感器(MOS):基本上不能消除。MOS是用来测量PPM级别的CH4、CO、H2、HC有机气体,即使没有催化剂,PN结的电阻也会随着上述气体的浓度而变化,因此无法区分。如果必须消除交叉干扰,则只能使用分子筛过滤器进行过滤。