金属氧化物半导体传感器(MOS):MOS传感器的交叉干扰来自两个方面：PN结和催化剂。硅片上的结和催化剂很早就被发现了。PN结的电阻对温度、湿度和环境空气都很敏感。后来，为了扩大敏感性，人们正在扩大敏感性。PN涂上对可燃气体敏感的催化剂，加热，构成MOS传感器。MOS没有气体选择性，从市场上的传感器技术数据来看，所有可燃气体，MOS都有响应。

如何消除交叉干扰？

催化燃烧传感器(LEL)：很难消除。一般来说，LEL传感器对可燃气体有反应，这种反应是叠加的。只有一个可以实现，那就是去除大分子。HC气体的副作用是延长传感器的响应时间。

电化学传感器(EC):首先要知道被测气体的类型，然后在传感器的交叉灵敏度表中找到交叉干扰系数。如果找不到，需要咨询传感器供应商的技术支持工程师。消除交叉干扰的最好方法是过滤其他气体，例如，CO传感器内部添加可以过滤掉H2S,NO和NO2过滤器。当然，这种过滤器也是化学物质，消耗性和寿命长。此外，化学过滤器不能过滤掉所有干扰气体。如果几种被测气体混合在一起，则测量浓度，EC传感器对它们的交叉灵敏度不为零，需要通过多个方程组来解决。该方法是烟气分析仪器中的标准算法。

非色散红外传感器(NDIR):由于不同气体的红外吸收波长不同，几乎不需要消除交叉干扰。唯一特别的是，水蒸气对水蒸气的吸收波长不同。HC气体检测的干扰。根据个人经验，40岁，℃，90%RH的条件下，NDIRCH传感器读数比真值高1500PPM以上。在这种情况下，如果需要改进测量精读，则需要采用制冷除水法或制冷除水法Nafion除水法去除了大量的水蒸气。红外线。CH4传感器对HC各种气体都有交叉反应，因为CH4传感器实际上是测量的H-C钥匙的浓度，所以只要有钥匙的浓度，H-C键气，红外CH4传感器实际上可以测量。

光离子传感器(PID):基本上不能消除。PID用于测量挥发性有机物(VOC)的，而通常VOC分子比较大，比如碳链的长度≥4、用分子筛或活性炭过滤，VOC被吸附，无法到达传感器，也无法检测到VOC浓度。但是，用活性炭过滤气体，对气体，PID另一个好处是可以用活性炭过滤的空气标定零点。

金属氧化物半导体传感器(MOS):基本上不能消除。MOS是用来测量PPM级别的CH4、CO、H2、HC有机气体，即使没有催化剂，PN结的电阻也会随着上述气体的浓度而变化，因此无法区分。如果必须消除交叉干扰，则只能使用分子筛过滤器进行过滤。